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產(chǎn)品詳細頁
真空氣氛燒結爐

簡要描述:真空氣氛燒結爐廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領域在惰性氣氛環(huán)境下進行燒結的生產(chǎn)及實驗。

  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-05-05
  • 訪  問  量:1525

產(chǎn)品介紹

品牌中奧菲達升溫速度(達到最高溫)40/min
內(nèi)部尺寸300x200x200mm加熱方式硅碳棒
最大功率4000kW控溫精度1℃
最高溫度1300℃價格區(qū)間1萬-2萬
儀器種類箱式爐產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),綜合

產(chǎn)品簡介:
  真空氣氛爐又名無氧退火爐、真空氣氛燒結爐等 物體在通入定氣體的爐膛內(nèi)進行燒結的方法。 不同的材料選擇適宜的氣氛燒結,有助于燒結過程,提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體(如氬)等各種氣氛。例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結,透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結,氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮氣氛燒結。 有時為保護燒結調(diào)協(xié)也須在保護氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫,鎢絲爐宜在真空條件下工作。


氣氛爐用途:
  真空氣氛爐滿足于不同工藝實驗而殊制造,適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產(chǎn)設備。


真空氣氛燒結爐原理:
  真空氣氛爐是真空技術與熱處理技術相結合的新型熱處理技術,真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于個大氣壓的氣氛環(huán)境,包括低真空、中等真空、高真空和超高真空,真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的部和部分在真空狀態(tài)下進行的,真空熱處理可以實現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝,但熱處理質(zhì)量大大提高。與常規(guī)熱處理相比,真空熱處理的同時,可實現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳,可去掉工件表面的磷屑,并有脫脂除氣等作用,從而達到表面光亮凈化的果。


真空氣氛爐結構:
  一 、電氣部分:電氣部分采用與氣氛爐爐體體化結構,整個電氣元件安裝在爐體底部的側,結構緊湊、占用空間小。溫控安裝在爐體側面板上,觀察直觀,調(diào)節(jié)方便,溫控儀具有PID調(diào)節(jié)功能,可自動跟蹤設定PID值,可任意設定測量分度密碼,同時具備補償功能,可使爐膛溫度與顯示值致。
  二、爐體部分:爐膛采用莫來石聚輕磚砌筑,爐膛內(nèi)上下用碳化硅棚板,爐內(nèi)溫度是加熱元件在加熱過程中經(jīng)過碳化硅棚板傳導(暗火加熱),溫度更均勻。爐殼密封。為提高該氣氛爐的密封墊的使用壽命在爐門口設有循環(huán)水冷套以降低密封處的溫度。進氣設爐膛底部,經(jīng)加熱腔預熱后分多處進入爐內(nèi),排氣經(jīng)爐頂后部排出。爐內(nèi)氣氛均勻,減小爐內(nèi)溫差。也就是說,不論是電氣部分還是爐體部分,它們的結構性能都是互相力的,具有統(tǒng)性,也是實現(xiàn)箱式氣氛爐功能的基本!

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